Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。
Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm尺寸)进行处理。它还具有多尺寸批处理功能。价格适宜且占地面积小。
刻蚀应用： 砷化镓、砷化铝镓、氮化镓、磷化铟、铝、硅化物、铬以及其他要求腐蚀性和非腐蚀性化学刻蚀的材料。
沉积应用： 二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各种材料。