低损伤去胶系统 新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平。但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决：Gemini和Apollo。
利用ICP（电感耦合等离子）、微波和射频偏置功率， 可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求， 每套系统可以结合SST-Lightning微波源 （既可靠又没有任何常见的微波调谐问题）或ICP技术。 —刻蚀速率高达6微米/分 —吞吐量高 —等离子损伤低 —自动匹配网络 —适用于100mm到300mm基片 —设备占地面积小 —价格具竞争性