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产品资料
LPCVD化学气相沉积工艺炉
简介:

英国Thermco Systems公司成立于1962年,是一家专业的卧式扩散炉、氧化炉、退火炉、合金化炉及LPCVD炉的制造商,根据基片尺寸以及产量要求的不同,HTR系列可分为大批量生产型5100/5200系列(6英寸)、科研型2400系列(4英寸)/2600系列(6英寸)/2800系列(8英寸)等;可处理4"~10"的基片,每管处理能力分别可达25片、50片、100片及更多;根据配置不同的工艺气源及温度控制范围,各型号的产品均可用于LPCVD、扩散及氧化等热处理反应的化学气相沉积工艺

产品详情




标准半导体工艺
·LPCVD氮化硅(标准型)
·LPCVD氮化硅(低应力型)
·LPCVD斜坡温度多晶硅
·LPCVD一致晶粒多晶硅
·LPCVD氧化层TEOS(正硅酸乙脂)
·LPCVD VLTO(低温氧化)
·LPCVD BPSG(硼磷硅玻璃)
· 高温氧化
· 干法氧化
· 湿法氧化
· 掺杂扩散 3-4路液相掺杂管路 ( POCL3 or BBR3)
· 5-6TCAHcl气路
· 混合气体退火
· 高温热回火
· 低温退火和合金化
· 高温驱入(Drive in

标准LED工艺
·高真空退火(环境可控)
·低温合金化/退火

标准PV(太阳能)工艺
·湿氧/干氧
·PN结驱入
·Forming气体退火
·氢气退火
·低温热处理
·POCl3,BBr3 PN结和槽
·反射氮化膜(ARC Nitride coating

标准MEMS(微机电)工艺
·低应力CVD氮化物
·氧氮化物SIPOS
·厚氧
·TEOS,良好的台阶覆盖能力
·多晶硅和掺杂多晶硅

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